第413章 万兴刚想出改进的办法（第4页）

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    这些都是内因。
    还有外因。
    近场光刻技术对操作者的要求很高，因为需要12高精度调整和控制。
    这就要求对操作者进行严格培训。
    培训的成本，最终也会加到芯片的成本上。
    而且一旦出意外，操作员出了问题，想临时调其他操作员过来根本不可能，因为要求太高了。
    对此。
    万兴刚想出改进的办法。
    使用接触式近场光刻技术弥补短板。
    直到万兴邦穿越之前，繁华年代的光刻机，使用的就是接触式近场光刻技术。
    是他知道的。
    最先进的光刻技术。
    刚下线的第二代光刻机，无论透镜技术，还是光刻技术，都超越了时代，达到繁华年代的标准。
    接触式近场光刻技术，就是近场光刻技术的改良型。
    借助接触探针，或者探针阵列，与光刻胶直接接触，把复杂的图案转移到光刻胶上。
    零距离接触，排除其他干扰，能实现更高的分辨率，更快的转移速度，以及更高的可靠性。
    稳定性。
    尤其是用于高精度和通量高的应用。
    远远超过第一代光科技的分辨率限制，在分辨率方面实现了质的飞跃。
    在纳米制造、生物学和光学等领域，都有着非常广泛的应用前景，也是多个领域发展的前提。
    要是没有高精度芯片，很多领域是发展不起来的。
    “接触式近场光刻技术，相比传统的近场光刻技术，最少能提升百分之三十到四十的加工速度。”
    “节约时间成本，同时能提高精度，提高成品率。”
    “第二代光刻机技术，就算一直用到本世纪末，也不会落后，其他国家也根本没机会赶上来。”
    万兴邦有这个自信。
    因为他拿出来的技术，一方面来自记忆，一方面来自系统，两者融合，超越这个时代。
    “只要给我一点时间，有了第二代光刻机，无论是奔腾d处理器，还是酷与双核处理器，我都能弄出来。”
    万兴邦回忆起前世的科技。
    他可不是盲目自信。
    这两种处理器，原来的历史轨迹中，都是两千年之后才出现的，一个是零五年，一个是零六年。
    这两种处理器的出现，都依赖于光刻机。
    刚下线的第二代光刻机，达到了能生产两种处理器的水准，某些方面，甚至远远超过这个水准。
    比如光刻胶。
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